IBAD, 也叫離子束輔助沉積(lon Beam Assisted Depositon 或Ion Beam Enhanced Deposition, 是把離子束注入與氣相沉積鍍膜技術相結合的復合表面離子處理技術, 也是離子束表面處理優化的新技術.

這種復合沉積技術是在離子注入材料表面改性過程中, 使膜與基體在界面上由注入離子引發的級聯碰撞造成混合, 產生過渡層而牢固結合. 因此在沉積薄膜的同時, 進行離子束轟擊便應運而生. 因此它是離子束改性技術的重要發展, 也是離子注入與鍍膜技術相結合的表面復合離子處理新技術. 在材料的腐蝕防護/ 裝飾等方面獲得工業應用.

伯東美國 KRI考夫曼離子源可以輔助可以有效鍍膜 IBAD用于預清潔 PC, 可以有效防止出現膜層不均勻, 從而防止產品膜層脫落的現象, 因此美國 KRI 考夫曼霍爾型離子源廣泛加裝在各類蒸發鍍膜機中.

離子源輔助鍍膜客戶案例一: 廈門某光學鍍膜企業, 該企業使用日本 Shincron 真空鍍膜機, 鍍膜腔體約 2 m³, 鍍膜機加裝 KRI 霍爾離子源 EH 4200 起到預清潔 PC及輔助鍍膜 IBAD 的作用.

離子源輔助鍍膜具體操作, 霍爾離子源預清潔 PC +輔助鍍膜 IBAD: 由于膜層表面很光滑,在鍍膜時會產生膜層脫落現象, 預清潔就是將膜層表面用大的離子如 Ar 打擊表面, 使得制程物能有效的吸附在表面上. 加裝KRI霍爾離子源起到預清潔作用, 在預清潔后開啟離子源輔助鍍膜 IBAD, 膜層厚度均勻性及附著牢固度都明顯提高.

工作示意圖如下, KRI離子源覆蓋面


使用專業測膜記號筆, 可以明顯看出加裝 KRI 離子源前后有很大的不同

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列主要應用

1.輔助鍍膜 IBAD

2.濺鍍&蒸鍍 PC

3.表面改性/ 激活 SM

4.沉積 (DD)

5.離子蝕刻 LIBE

6.光學鍍膜

7.Biased target ion beam sputter deposition (BTIBSD)

8.Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)

例如

1. 離子輔助鍍膜及電子*****蒸鍍

2. 線上式磁控濺射及蒸鍍設備預清洗

3. 表面處理

4. 表面硬化層鍍膜

5. 磁控濺射輔助鍍膜

7. 偏壓離子束磁控濺射鍍膜 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

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